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[主观题]

将NH4I(s)放入抽空的容器中.当加热至403℃时,起初只有NH3(g)和HI(g)生成,且在相当长的

将NH4I(s)放入抽空的容器中.当加热至403℃时,起初只有NH3(g)和HI(g)生成,且在相当长的

时间内压力保持在94.0kPa,后因HI(g)逐渐分解成H2(g)和I2(g),压力不断变化,计算容器内气体的最终平衡压力.已知403℃时,纯HI(g)的离解度为21.5%.假设达平衡时,容器内仍有NH4I(s),气体服从理想气体状态方程.

提问人:网友18***590 发布时间:2022-01-07
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第1题
在一个抽空的容器中,放入过量的NH4I(s)并发生下列反应: NH4I(s)==NH3(g)+ HI(g) 2HI(g)==H2(g)+I2(g) 系统的相数

=( );组分数K=( );自由度f=( )。

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第2题
在一个抽空的容器中,放入过量的NH4I(s)并发生下列反应: NH4I(s)====NH3(g)+HI(g) 2HI(g)====H2(g)+I2(g)
在一个抽空的容器中,放入过量的NH4I(s)并发生下列反应:

  NH4I(s)====NH3(g)+HI(g)

  2HI(g)====H2(g)+I2(g)

  系统的相数Ф=(  );组分数K=(  );自由度f=(  )。

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第3题
真空密闭容器中放入过量的NH4I(s)与NH4Cl(s),发生以下分解反应 NH4Cl(s) NH3(g) + HCl(g) NH4I(s) NH3(g) + HI(g) 达平衡后,系统的相数P =( )。

A、0

B、1

C、2

D、3

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第4题
简述液晶的特性与用途、

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第5题
水蒸气和石墨反应:H2O(g)+C(石墨)一H2(g)+CO(g),求:(1) 该反应的ΔtHmθ(298K);(2
水蒸气和石墨反应:H2O(g)+C(石墨)一H2(g)+CO(g),求:

(1) 该反应的ΔtHmθ(298K);

(2)该反应的ΔtUmθ(298K);

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第6题
参考表12-2中的铜业数据。(1)a.根据这些数据,估计以下回归模型:,并解释所得结果。b.求出上述回归
参考表12-2中的铜业数据。

(1)a.根据这些数据,估计以下回归模型:,并解释所得结果。

b.求出上述回归的残差和标准化残差并作图。你能对这些残差中是否有自回归做些什么猜测?

c.估计德宾-沃森d统计量并对数据中可能出现的自相关性质作出评论。

d.做游程检验,看你的答案是否不同于刚才在c中所得到的结果。

e.你怎样辨别AR(p)过程是否比AR(1)过程更好地描述自相关?

(2)如果该题的结果表明存在序列相关:

a.用科克伦-奥克特两步程序,估计可行GLS或广义差分回归,并比较你所得的结果。

b.如果估计自a的科克伦-奥克特法的ρ值和从d统计量估计得的结果相差较大,你将选择哪一个估计ρ的方法,为什么?

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第7题
水的净化按作用原理区分为哪儿种?按处理深度又可分为哪儿级?各级的主要目的是什么?

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第8题
在A/D转换器中,哪一种电路转换速度最快?哪一种电路的稳定性和抗干 扰能力最好?

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第9题
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