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[单选题]

以下关于MEMS概念的描述中，错误的是（）

A.通过微细加工技术及微机械加工技术在半导体基板上制作的微型电子机械装置

B.在微电子学中衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度是特征尺寸

C.特征尺寸为1μm~10mm为小型机构

D.特征尺寸为1nm~10μm为纳米机械

提问人：网友lixin080108 发布时间：2022-02-23

参考答案

C、特征尺寸为1μm~10mm为小型机构

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ABCD

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第1题

以下关于MEMS概念的描述中，错误的是()。

以下关于MEMS概念的描述中，错误的是（)。

A、通过微细加工技术及微机械加工技术在半导体基板上制作的微型电子机械装置

B、在微电子学中衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度是特征尺寸。

C、特征尺寸为1μm–1mm的为小型机构

D、特种尺寸为1nm-1μm到一微米的微纳米机械

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第2题

微细加工中的关键技术有（)A微系统建模技术B微细加工技术C微型机械组装和封装技术D自组织成型工

微细加工中的关键技术有()

A微系统建模技术

B微细加工技术

C微型机械组装和封装技术

D自组织成型工艺

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第7题

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基于硅微细加工技术有()

A体硅微细加工技术

B表面硅微细加工技术

C线硅微细加工技术

D键合技术

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第10题

微细加工工艺方法有A超微机械加工B光刻加工C体刻蚀加工D面刻蚀加工

微细加工工艺方法有

A超微机械加工

B光刻加工

C体刻蚀加工

D面刻蚀加工

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第11题

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A.光刻技术

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C. 半导体掺杂技术

D. LIGA技术

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