题目内容
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[主观题]
在阴极溶出伏安法中,难溶化合物ML(n+m)在电极表面形成的速度一定要比电极反应产生的M(n+m)+从电极表面向溶
在阴极溶出伏安法中,难溶化合物ML(n+m)在电极表面形成的速度一定要比电极反应产生的M(n+m)+从电极表面向溶液本体转移的速度慢。( )
提问人:网友anonymity
发布时间:2022-01-07
在阴极溶出伏安法中,难溶化合物ML(n+m)在电极表面形成的速度一定要比电极反应产生的M(n+m)+从电极表面向溶液本体转移的速度慢。( )
A.富集过程是电还原,溶出过程是电氧化
B.常用于测定阴离子和有机大分子
C.在富集过程中,电极反应产物常以汞齐或难溶化合物的形式被富集
D.溶出时,工作电极的电位以一定速度由负向正变化
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