题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

光刻工艺中，常用的涂底胶的方法有（）。

A.蒸汽式涂底胶方法

B.常压式涂底胶

C.旋转喷涂底胶法

D.静态旋转涂胶

提问人：网友mengxin 发布时间：2022-01-07

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此题为判断题(对，错)。

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B. 40％浓度的聚乙烯醇溶液

C. 15-20％的聚醋酸乙烯乳液

D. 30％浓度的聚乙烯醇溶液

E. 30％的聚醋酸乙烯乳液

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第5题

当壁纸墙面有胶包、气泡时，可用（）处理多余的胶液。

A. 胶辊

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第6题

对煤系地层封闭必须采用（）封孔。

A. 粘土

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A、晾晒

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第8题

纳米光刻技术中分辨率越高，光刻图形能分辨的线宽越大。

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第9题

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第10题

纳米光刻中常采用负胶。

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