题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
从三极管的内部制造工艺来看,主要由以下两个特点()。
A.发射区低掺杂
B.发射区高掺杂
C.基区很薄,且掺杂浓度较低
D.基区较厚,且高掺杂
提问人:网友citykonke
发布时间:2022-01-07
A.发射区低掺杂
B.发射区高掺杂
C.基区很薄,且掺杂浓度较低
D.基区较厚,且高掺杂
A.发射区掺杂浓度高,集电结面积大
B.发射区掺杂浓度高,集电结面积小
C.发射区掺杂浓度低,集电结面积小
D.发射区掺杂浓度低,集电结面积大
A.发射区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,集电区面积大且掺杂较发射区轻;
B.集电区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较集电区轻;
C.基区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较基区轻;
D.发射区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,基区面积大且掺杂较发射区轻。
A.发射区的掺杂浓度比基区要低
B.集电结面积可大可小,对三极管无影响
C.发射区掺杂浓度可大可小,对三极管无影响
D.发射区、基区、集电区中,发射区掺杂浓度要最高
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