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[单选题]

从三极管的内部制造工艺来看,主要由以下两个特点()。

A.发射区低掺杂

B.发射区高掺杂

C.基区很薄,且掺杂浓度较低

D.基区较厚,且高掺杂

提问人:网友citykonke 发布时间:2022-01-07
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第1题
晶体管分为三个掺杂区,发射区的特点是掺杂浓度,基区的特点是区域很薄,掺杂浓度,集电区的特点是掺杂浓度较低,但面积大。

A.高;低

B.高;高

C.低;低

D.低;高

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第2题
从提高晶体管放大能力出发,除了将晶体管基区做得很薄,且掺杂浓度很低之外,工艺上还要采取如下措施 。

A.发射区掺杂浓度高,集电结面积大

B.发射区掺杂浓度高,集电结面积小

C.发射区掺杂浓度低,集电结面积小

D.发射区掺杂浓度低,集电结面积大

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第3题
【单选题】BJT的内部结构特点如下:()

A.发射区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,集电区面积大且掺杂较发射区轻;

B.集电区重掺杂,基区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较集电区轻;

C.基区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,发射区面积大且掺杂较基区轻;

D.发射区重掺杂,集电区很薄且轻掺杂,基区面积大且掺杂较发射区轻。

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第4题
关于BJT的结构特点说法错误的是()。

A.基区很薄且掺杂浓度很低

B.发射区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

C.基区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

D.集电区面积大于发射区面积

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第5题
有关NPN型三极管内部结构特点,说法正确的是 。

A.发射区的掺杂浓度比基区要低

B.集电结面积可大可小,对三极管无影响

C.发射区掺杂浓度可大可小,对三极管无影响

D.发射区、基区、集电区中,发射区掺杂浓度要最高

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第6题
关于三极管的结构特点,以下说法不正确的为(B )

A.基区很薄

B.基区掺杂浓度最高

C.发射区掺杂浓度最高

D.发射结的结面积小于集电结的结面积

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第7题
三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

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第8题
晶体管能够放大的内部条件是()。

A.两个背靠背的PN结

B.自由电子与空穴都参与导电

C.有三个掺杂浓度不同的区域

D.发射区高掺杂;基区很薄;集电区掺杂浓度低但面积大

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第9题
晶体三极管发射区掺杂浓度远大于基区掺杂浓度。()

晶体三极管发射区掺杂浓度远大于基区掺杂浓度。()

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第10题
晶体管结构特点是:发射区重掺杂, 基区轻掺杂且很薄, 集电区面积大。
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