题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

半导体芯片生产中,离子注入主要是用来()。

A.氧化

B. 改变导电类型

C. 涂层

D. 改变材料性质

E. 镀膜

提问人:网友cxhangtian 发布时间:2022-01-06
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  • · 有3位网友选择 B,占比30%
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匿名网友 选择了E
[195.***.***.61] 1天前
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[180.***.***.253] 1天前
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[84.***.***.28] 1天前
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[44.***.***.223] 1天前
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[138.***.***.211] 1天前
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[246.***.***.234] 1天前
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第1题
关于QData Standard中所采用的RAID卡,下面哪个描述是错误的()

A.服务器上采用的RAID卡芯片绝大部分都来自半导体厂商Broadcom (Avago)

B.HP服务器上的RAID卡芯片来自PMC-Sierra

C.一体机上RAID卡的缓存主要是用来提高Oracle数据库业务数据的访问速度的

D.不管是计算节点还是存储节点,RAID卡的缓存必须全部开启,以便提升性能并且能确保数据不丢失

E.RAID卡本身也有性能极限,戴尔的H730P,吞吐能力大约在5 – 6GB/s,IOPS处理能力大约在50 – 60万IOPS

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第2题
在半导体生产中,湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。()

此题为判断题(对,错)。

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第3题
在半导体芯片的生产中,要将直径8英寸的晶圆盘切割成3000粒小芯片,目前由于工艺水平的限制,小芯片仍有1%~2%的不良率。试生产了一段时间,生产初步达到了稳定,为了监控小芯片的不良率,在两个月内的每天固定抽检5个晶圆盘,测出不良小芯片的总数。要根据这些数据建立控制图,这时应选择下列何种控制图()。

A.np图或P图都可以,两者效果一样

B.np图或P图都可以,np图效果更好

C.np图或P图都可以,p图效果更好

D.以上都不对

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第4题
在半导体芯片生产中,要将直径8英寸(约合20厘米)的晶圆盘(wafer)切削成3000粒小芯片(die)。目前由于工艺水平的限制,小芯片仍有约百分之一至二的不良率。在试生产了一段时间,生产初步达到了稳定。为了检测小芯片的不良率,在两个月内每天固定抽检5个晶圆盘,测出不良小芯片总数,要根据这些数据建立控制图,这时应选用下列何种控制图()?

A.NP图和P图都可以,两者效果一样

B.NP图和P图都可以,NP图效果更好NP样本大小不变

C.NP图和P图都可以,P图效果更好

D.以上都不对

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第5题
下列选项对汽车芯片分类表述正确的是()

A.功能芯片,主要是指MCU(微控制器芯片)和存储器,其中MCU负责具体控制功能的实现,承担设备内多种数据的处理诊断和运算

B.主控芯片,在智能座舱、自动驾驶等关键控制器中承担核心处理运算任务的SoC,内部集成了CPU、GPU、NPU、ISP等一系列运算单元

C.功率半导体,主要是IGBTs和MOSFETs

D.传感器芯片,包括导航、CIS和雷达等

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第6题
冶金生产中氧气事故主要是()和()。
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第7题
下列关于微电子技术的叙述,错误的是()

A.Moore定律指出单块集成电路的集成度平均每年翻一番

B.现代集成电路使用的半导体材料主要是硅,也可以是化合物半导体如砷化镓等

C.现在PC机中使用的微处理器芯片都是超大规模和极大规模集成电路

D.微电子技术以集成电路为核心

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第8题
在下列有关集成电路的叙述中,错误的是_________。

A.现代集成电路使用的半导体材料主要是硅

B.大规模集成电路一般以功能部件、子系统为集成对象

C.我国第2代居民身份证中包含有IC芯片

D.目前超大规模集成电路中晶体管的基本线条已小到1纳米左右

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第9题
下列关于微电子技术的叙述,错误的是?

A.Moore定律指出单块集成电路的集成度平均每年翻一番

B.现代集成电路使用的半导体材料主要是硅,也可以是化合物半导体如砷化镓等

C.现在PC机中使用的微处理器芯片都是超大规模和极大规模集成电路

D.微电子技术以集成电路为核心

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第10题
下列有关技术及其应用的说法中,正确的是()

A.新型电热毯的电阻丝是用超导材料制成的

B.手机的芯片主要是由半导体材料制成的

C.人们可以利用超声波来测量地球到月球的距离

D.橡胶和塑料都是绝缘体,所以在电路中毫无用处

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