题目内容
（请给出正确答案）
下列叙述正确的有______。
A) Windows系统在安装时，所有的功能都必须安装，否则系统不能正常运行
B) Windows允许同时建立多个文件(夹)
C) Windows中的文件(夹)删除后，还可以从回收站中还原
D) 从回收站中删除文件(夹)后，内存中仍有该程序存在
E) Windows功能非常强大，既使直接将电源关断，计算机仍能自动保存信息
F) 一个窗口最大化后，就不能再移动了
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A.符号 w 前的数字越小，说明其低温黏度越小
B.符号 w 前的数字越小 ，低温流动性越差
C.符号 w 前的数字越小 ， 适用的最低气温越高。
D.符号 w 前的数字越大 ， 说明其低温黏度越小
下列关于软育剂基质的叙述，错误的是
A.油腊性基质对皮肤有软化保护作用，且易清洗
B.水溶性基质释放药物较快
C.水溶性基质可用于有多量滲出液的创面
D.O/W型乳剂型基质需加入保湿剂
E.O/W型乳剂型基质不可用于有多最渗出液的创面
下列关于软膏基质的叙述中错误的是 ()
A.液状石蜡主要用于调节软膏稠度
B.水溶性基质释药快，有刺激性
C.水溶性基质由水溶性高分子物质加水组成，需加防腐剂，而不需加保湿剂
D.凡士林中加入羊毛脂可增加吸水性
E.硬脂醇是w／o型乳化剂，但常用在0／w型乳剂基质中
A.水溶性基质由水溶性高分子物质加水组成，需加防腐剂，但不需加保湿剂
B.软膏剂的制备方法有研和法、乳化法和融和法
C.单硬脂酸甘油酯是W／O型乳化剂，但常与O／W型乳化剂合用，制得稳定的O／W型乳剂基质
D.十二烷基硫酸钠为W／O型乳化剂,常与其他O／W型乳化剂合用调节HLB值
E.三乙醇胺和硬脂酸作用生成新生皂,可制备O／W型乳剂基质的软膏
A.作业高度2m＜h w ≤5m，高处作业分级为Ⅰ级
B.作业高度2m＜h w ≤5m，高处作业分级为Ⅱ级
C.作业高度5m＜h w ≤15m，高处作业分级为Ⅱ级
D.作业高度5m＜h w ≤15m，高处作业分级为Ⅲ级
E.作业高度1m＜h w ≤30m，高处作业分级为Ⅲ级
A.水溶性基质由水溶性高分子物质加水组成，需加防腐剂，但不需加保湿剂
B.软膏剂的制备方法有研合法、乳化法和熔合法
C.单硬脂酸甘油酯是W/O型乳化剂，但常与O/W型乳化剂合用，制得稳定的O/W型乳剂基质
D.十二烷基硫酸钠为W/O型乳化剂，常与其他O/W型乳化剂合用调节HLB值
E.三乙醇胺和硬脂酸作用生成新生皂，可制备O/W型乳剂基质的软膏
下列关于软膏基质的叙述中错误的是
A.液状石蜡主要用于调节软膏稠度
B.水溶性基质释药快，有刺激性
C.水溶性基质由水溶性高分子物质加水组成，需加防腐剂，而不需加保湿剂
D.凡士林中加入羊毛脂可增加吸水性
E.硬脂醇是W／O型乳化剂，但常用在o／W型乳剂基质中
A.作业高度2m＜h＜sub＞w＜/sub＞≤5m，高处作业分级为Ⅰ级
B.作业高度2m＜h＜sub＞w＜/sub＞≤5m，高处作业分级为Ⅱ级
C.作业高度5m＜h＜sub＞w＜/sub＞≤15m，高处作业分级为Ⅱ级
D.作业高度5m＜h＜sub＞w＜/sub＞≤15m，高处作业分级为Ⅲ级
E.作业高度1m＜h＜sub＞w＜/sub＞≤30m，高处作业分级为Ⅲ级
A.卡波普在水中溶胀后，加碱中和后即成为黏稠物，可作凝胶基质
B.十二烷基硫酸钠为W/O型乳化剂，常与其他O/W型乳化剂合用调节HLB值
C.O/W型乳剂基质含较多的水分，无须加入保湿剂
D.凡士林中加入羊毛脂可增加吸水性
E.硬脂醇是W/O型乳化剂，但常用于O/W型乳剂基质中起稳定、增稠作用
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