光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。

A. 显影→停显→定影→水洗→干燥

B. 显影→定影→水洗→干燥

C. 显影→水洗→定影→干燥

D. 显影→水洗→停显→定影→干燥

A. 数字文件→激光照排→晒版→显影→冲洗

B. 数字文件→晒版→激光照排→显影→冲洗

C. 数字文件→激光照排→显影→晒版→冲洗

D. 数字文件→显影→冲洗→晒版→激光照排

A. 涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶

B. 涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶

C. 涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶

D. 前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

A. 拼版一修版一校对一晒版一涂保护胶

B. 拼版一校对一晒版一修版一涂保护胶

C. 校对一晒版一拼版一修版一涂保护胶

D. 修版一校对一晒版一拼版一涂保护胶

A. 定影

B. 冲洗

C. 图布感光液

D. 除膜

A、匀加速直线运动，加速度为正值

B、匀加速直线运动，加速度为负值

C、变加速直线运动，加速度为正值

D、变加速直线运动，加速度为负值

A、t=4s

B、t=2s

C、t=8s

D、t=5s