关于影响抛光光度的因素,下列哪种说法是不正确的?()
A.磨料的粒度
B. 磨削速度
C. 机件与磨具的接触方式
D. 以上答案都不正确
A.磨料的粒度
B. 磨削速度
C. 机件与磨具的接触方式
D. 以上答案都不正确
A.在碳当量(CE%)一定情况下,Si / C比增加,初析奥氏体量增加
B.在碳当量(CE%)一定情况下,Si / C比增加,初析奥氏体量减少
C.干扰项1(不必选)
D.干扰项2(不必选)
关于流行病学,下列哪种说法正确
A.从个体的角度研究疾病和健康状况的分布及其影响因素
B.只研究疾病的防治措施
C.研究传染病的分布及其影响因素
D.研究慢性病的危险因素
E.研究人群中疾病与健康状况的分布及其影响因素,并研究防治疾病及促进健康的策略、措施及效果评价
关于流行病学,下列哪种说法正确
A.从个体的角度研究疾病和健康状况及其影响因素
B.只研究传染病的流行特征和防治措施
C.只研究慢性病的危险因素
D.研究人群中疾病和健康状况的分布及其影响因素
E.只研究疾病的防治措施
A.从个体的角度研疾病和健康状况及其影响因素
B.只研究传染病的流行特征和防治措施
C.只研究慢性病的危险因素
D.研究人群中疾病和健康状况的分布及其影响因素
E.只研究疾病的防治措施
A.只研究慢性病的危险因素
B.只研究传染病的流行和防治
C.从个体的角度研究疾病和健康状况及其影响因素
D.研究人群中疾病和健康状况的分布及其影响因素
A.从个体的角度研究疾病和健康
B.只研究传染病的流行和防治
C.只研究慢性病的危险因素
D.研究人群中疾病和健康的分布及其影响因素
E.无法研究原因不明疾病
A.从受精到有机体出生之间存在发育,出生后发育停止
B.控制发育的全部信息都存在于受精卵内,但有时环境因素影响发育
C.发育是生物有机体的自我构建和自我组织,不受外界因素的影响
D.发育是个别基因表达变化的结果
E.个体发育中,基因按一定时间、空间和次序表达,基因表达的数量没有变化
A.作用效应是指作用在结构上的各种荷载
B.作用效应是指结构上的各种作用,在结构内产生的内力
C.结构抗力是结构内部固有不变的,不受外界因素的影响
D.构件的刚度属于结构的抗力的一种
A.抛光大刻面的宝石,抛光盘的刻痕宜少且深。
B.抛光剂过少,宝石抛光面会出现刮蚀作用。
C.在抛光中,抛光盘转速越大,抛光效率越高。
D.进行精磨可以保证抛光效果、提高抛光速度。
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