已知仅掺杂磷的n型硅样品,且其室温时的电阻率为,则其掺杂浓度最可能为()。
A.
B.
C.
D.
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在一块掺硼的非简并p型硅样品中含有一定浓度的铟,在室温下(300K)下测得电阻率。已知所掺杂的硼浓度,硼的电离能,铟的电离能,试求样品中[室温下,,假设硼(浅能级杂质)已经完全电离。]
主教材图6.18中,n型硅的掺杂浓度ND/cm-3分别为1E17,1.25E18,1.7E19,2.6E20,计算前两个浓度下室温的载流子浓度n、霍尔系数R11、电子平均自由程lc以及电阻率ρ。
考虑一个硅PN结太阳电池,其面积为2cm2.若太阳电池掺杂浓度为Na=1.7×1016cm-3,Nd=5×1019cm-3)且已知τn=10μs,τp=0.5μs,Dn=9.3cm2/s,Dp=2.5cm2/s,IL=95mA.在室温下:
在室温下,若n型硅品片的杂质浓度为ND=1016cm-3,后来加重掺杂的p区杂质浓度为NA=1018cm-3,计算其接触势φ、耗尽层厚度d以及耗尽层电容C0/A。
【习题8-3】对由电阻率为的n型硅和厚度为100 nm$二氧化硅膜组成的MOS电容,计算其室温下的平带电容。[假定硅的相对介电常数为,室温下电子迁移率为,]
已知一个硅突变结,其两边的电阻率分别为ρn=10Ω·cm的n-Si和电阻率为ρp=0.01Ω·cm的p-Si,已知其μn=100cm2/(V·s),μp=300cm2/(V·s),试求其在室温下势垒高度和势垒宽度。
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