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[主观题]

硅片表面的颗粒沾污一方面来自净化间外带来的颗粒、净化服中的纤维,一方面是来自制造工艺引入,例如设备、原材料等等。

提问人:网友magicybin 发布时间:2022-01-07
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第1题
精馏法原油稳定工艺中,净化原油首先与精馏塔底的稳定原油换热升温,然后经加热炉加热后从精馏塔的()进入精馏塔闪蒸。

A. 塔顶

B. 塔中间

C. 塔底

D. 塔顶、塔底同时

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第2题
沼气净化间发生漏气的正确处理方法是()

A. 1)、应立即疏散附近的人员。2)、打开净化管道的放空阀,关闭进气阀。3)、打开净化间的门窗,保持通风。最好是用鼓风机对净化间进行鼓风,吹散泄露的沼气。4)、待沼气散尽后,叫专业人员对设备进行检修,寻找漏气原因。5)、查出原因后,有针对地进行修理。6)、一切恢复正常后,开启总电源,按开机步骤进行开机。

B. 1)、应立即疏散附近的人员。2)、打开净化管道的放空阀,关闭进气阀。3)、待沼气散尽后,叫专业人员对设备进行检修,寻找漏气原因。4)、查出原因后,有针对地进行修理。5)、一切恢复正常后,开启总电源,按开机步骤进行开机。

C. 1)、应立即打开净化管道的放空阀,关闭进气阀。2)、立即打开净化间的门窗,保持通风。最好是用鼓风机对净化间进行鼓风,吹散泄露的沼气。3)、疏散附近的人员。4)、待沼气散尽后,叫专业人员对设备进行检修,寻找漏气原因。5)、查出原因后,有针对地进行修理。6)、一切恢复正常后,开启总电源,按开机步骤进行开机。

D. 1)、应立即疏散附近的人员。2)、立即打开净化间的门窗,保持通风。最好是用鼓风机对净化间进行鼓风,吹散泄露的沼气。3)、打开净化管道的放空阀,关闭进气阀。4)、待沼气散尽后,叫专业人员对设备进行检修,寻找漏气原因。5)、查出原因后,有针对地进行修理。6)、一切恢复正常后,开启总电源,按开机步骤进行开机。

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第3题
除去物料中湿分课采取的单元操作有()

A、沉降

B、干燥

C、吸收

D、过滤

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第4题
静电荷从一个物体向另一个物体流动,不受控制,通常由摩擦产生的是过程是
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第5题
清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和
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第6题
DHF的主要成分是水和
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第7题
一般是指不采用溶液的清洗技术为
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第8题
利用850kHz的声波进行清洗的技术称为
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第9题
CMOS是由PMOS和NMOS构成的,他们的栅连在一起,作为

A、电源

B、接地

C、输入

D、输出

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