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[单选题]

反应离子刻蚀进行刻蚀过程中

A.既有物理作用，又有化学作用

B.物理作用

C.化学作用

D.既不是物理作用也不是化学作用

提问人：网友haver1987 发布时间：2022-01-07

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ABCD

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第1题

刻蚀技术分湿法刻蚀和干法刻蚀两种，湿法刻蚀是指化学腐蚀，干法刻蚀容易出现钻蚀问题。

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第2题

下列反应历程中有碳正离子生成的是:

A、

B、

C、

D、

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第3题

水中所含（）和离子交换树脂进行离子交换反应而被除去的过程，称为离子交换除盐水处理。

A. 阳离子

B. 阴离子

C. 硬度

D. 各种离子

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第4题

在下列反应过程中,生成碳正离子中间体的反应是( )

A、Diels-Alder 反应

B、芳环上的亲电取代反应

C、芳环上的亲核取代反应

D、烯烃的催化加氢

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第5题

二氧化硅干法刻蚀常常采用哪种气体的等离子体形式

A、HCl

B、Cl2

C、HF

D、B2H6

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第6题

铝进行干法刻蚀时，常常采用哪种物质？

A、BClx和Cl2

B、HF

C、HCl

D、SF2

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第7题

常见的干法刻蚀方法主要包括

A、等离子体刻蚀

B、离子铣

C、反应离子刻蚀

D、湿法刻蚀

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第8题

干法刻蚀比较清洁，各向异性刻蚀，分辨率比较高。

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第9题

氧化去胶时，常用的氧化剂是

A、H2SO4和H2O2

B、乙醇

C、丙酮

D、甲苯

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