【习题8-7】试计算下列情况下平带电压的变化: (1) 氧化层中均匀分布着正电荷。 (2) 三角形电荷分布,金属附近高,硅附近为零。 (3) 三角形电荷分布,硅附近高,金属附近为零。 (假定三种情况下,单位表面积的总离子数都是
【习题8-7】试计算下列情况下平带电压的变化: (1) 氧化层中均匀分布着正电荷。 (2) 三角形电荷分布,金属附近高,硅附近为零。 (3) 三角形电荷分布,硅附近高,金属附近为零。 (假定三种情况下,单位表面积的总离子数都是,氧化层厚度均为,)
【习题8-7】试计算下列情况下平带电压的变化: (1) 氧化层中均匀分布着正电荷。 (2) 三角形电荷分布,金属附近高,硅附近为零。 (3) 三角形电荷分布,硅附近高,金属附近为零。 (假定三种情况下,单位表面积的总离子数都是,氧化层厚度均为,)
(1)试举例说明氧化物按其酸碱性的分类情况。氧化物的酸碱性在周期表中有何变化规律?同一元素不同价态的氧化物,其酸碱性有何变化规律?
(2)Na2S溶液在空气中放置颜色会变黄,试说明理由。
(3)H2O2分子和O3分子中有什么类型的杂化轨道和化学键,其形成过程是怎样的?
(4)几种物质中氧与氧之间的键长数据如下:
试据此对于上述各种氧与氧之间化学键的强度及相互之间的大小关系加以分析。
(5)试举两例说明H2S可以由硫化物与稀的、非氧化性强酸反应制得。从上述制法中可以分析出H2S的哪些性质?
(6)写出各种氧化数的硫的含氧酸的分子式,并画简图表示出分子中原子之间的键联关系。
(7)为什么浓硫酸是很强的氧化剂,而稀硫酸的氧化性很弱?
(8)用价层电子对互斥理论分析硫酸分子的几何形状,并叙述d-pπ配键的形成过程。
B、靠近半导体界面的电荷比靠近栅极界面的电荷影响更大
C、靠近栅极界面的电荷与靠近半导体界面的电荷的影响相同
D、靠近氧化层中间位置的电荷影响更大
(1)过氧化氢在碱性介质中氧化亚铬酸根离子;
(2)过氧化氢的浓溶液与氢氧化钡作用;
(3)氧化银在碱性介质中氧化过氧化氢;
(4)二价锰离子催化分解过氧化氢;
(5)高锰酸钾的酸性溶液与过氧化氢作用;
(6)在高温下硫单质与碳作用;
(7)点燃硫粉与铁粉的混合物;
(8)单质硫置于氢氧化钠中共热;
(9)硫化氢与单质溴反应;
(10)将硫化氢气体通入三价铁离子的溶液中;
(11)单质铜与浓硫酸作用;
(12)二硫化锡、硫化汞分别溶于硫化钠溶液中;
(13)以五氧化二钒为催化剂利用空气中的氧气氧化二氧化硫;
(14)隔绝空气加热亚硫酸钠固体;
(15)硫酸氢钠受强热脱水;
(16)灼烧过的氧化铝与焦硫酸钾共熔;
(17)氯磺酸与水作用;
(18)沸腾的亚硫酸钠溶液与硫粉反应;
(19)向硫化钠和碳酸钠的混合溶液中通入二氧化硫气体;
(20)溴化银溶于硫代硫酸钠溶液中;
(21)过二硫酸钾受热分解;
(22)碲化铝的水解;
(23)过氧化氢氧化二氧化碲。
试回答下列问题:
(1)以上10种元素的原子中,失去核外第一个电子所需能量最少的是()(填编号)。
(2)上述⑤、⑥、⑦三种元素中的某两种元素形成的化合物中,每个原子都满足最外层为8电子稳定结构的物质可能是(写分子式)()。某元素R的原子半径为1.04x10-10m,该元素最高价氧化物的水化物化学式为()。
(1)拟将下列离子转化为碳酸正盐,试说明怎样选择沉淀剂,并写出反应方程式:
(2)从二氧化硅氯化制备SiCl4,需要和焦炭共热进行反应的耦合:
而用HF对二氧化硅进行氟化制备SiF4则不需要反应的耦合:
(3)Pb与稀盐酸反应,速率很慢且反应会停止;但与浓盐酸作用时,反应容易进行。试给出合理解释。
(4)从H3BO3显酸性的机理去说明为什么H3BO3是一元弱酸。
(5)试解释下列无机含氧酸的氧化性由强到弱的原因:
HClO4>H2SO4>H3PO4>H2SiO3
(6)为什么硅不与氧化性酸反应,但又可溶于HNO3及HF混合溶液中?
(7)用平面图示的方法表示单聚硅酸根SiO44-,焦硅酸根Si2O74-,链三聚硅酸根和环六聚硅酸根。写出链n聚和环n聚多硅酸根的化学式。
(8)画简图表示乙硼烷的结构,并说明其中3中心2电子键的形成过程。
(9)硼砂Na2[B4O5(OH)4]·8H2O是四硼酸的钠盐。试说明通常将硼砂的化学式写成Na2B4O7原因。为什么硼砂溶于水形成缓冲溶液?试计算其pH。
(10)三氟化硼分子是单聚体BF3,同样属于缺电子结构的乙硼烷分子却是B2H6。或者说是二聚的BH3。从结构角度如何解释这种现象?
(11)BiI5和PbI4均不能稳定存在,却有TU3存在,试说明其原因。
(12)试比较乙硼烷、烷烃、甲硅烷三者的热稳定性,写出其受热分解的化学反应方程式。
(1)氢碘酸被空气中的氧气氧化。
(2)加热条件下固体溴化钠与浓磷酸反应。
(3)硫氰与水作用。
(4)在酸性条件下硫氰根阴离子还原二氧化锰。
(5)低温条件下三氟化溴与二氟化二氧的反应。
(6)低温条件下二氟化二氧与硫化氢作用。
(7)将单质氟和单质氯的混合物加热至250℃。
(8)常温下三氟化碘发生歧化反应。
(9)金属铀与三氟化氯作用。
(10)五氟化溴水解。
(11)二氯碘化铯受热分解。
(12)单质氟与质量分数为2%的氢氧化钠溶液反应。
(13)低温条件下单质氟与碎冰作用。
(14)次氯酸在光照下分解。
(15)次氯酸与盐酸反应。
(16)熟石灰与氯气反应制备漂白粉。
(17)氯酸钾受热分解。
(18)二氧化氯与过氧化钠的碱性溶液反应。
(19)浓硝酸氧化单质碘。
(20)氯酸氧化单质碘。
(21)二氟化氙水溶液氧化溴酸盐。
(22)浓的高氯酸与单质碘反应。
(23)浓的高氯酸受震动爆炸分解。
A、501
B、2.0 ×10-3
C、2.7
D、-2.70
【习题7-3】施主浓度的n型硅,室温下功函数是多少?若不考虑表面态的影响,它分别同Al,Au,Mo接触时,形成阻挡层还是反阻挡层?硅的电子亲和能取 4.05 eV。[Al的、Au的、Mo的]
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