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[单选题]

半导体表面达到强反型以后,随外加电压的增加,耗尽层宽度()。

A.增加

B.不变

C.减小

D.无法判断

提问人:网友bnuwenzi 发布时间:2022-01-07
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第1题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子耗尽状态到少子反型状态的过渡状态是?()
A、本征状态

B、平坦能带状态

C、多子积累状态

D、深耗尽状态

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第2题
对n沟增强型MOSFET而言,源极接地,半导体表面达到强反型后,___在沟道中______进行输运。
A、空穴,由源端到漏端

B、空穴,由漏端到源端

C、电子,由源端到漏端

D、电子,由漏端到源端

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第3题
以下关于MOS空间电荷区宽度的说法中,正确的是()。
A、半导体表面反型时,空间电荷区宽度达到最大值

B、空间电荷区宽度最大时,强反型区的电子或空穴会屏蔽表面电场

C、空间电荷区宽度达到最大值后,表面势的变化不会引起空间电荷区宽度的变化

D、对于n型,外加电压VG>0并逐渐增大时,空间电荷区宽度逐渐增大直至达到最大值

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第4题
【判断题】半导体二极管具有单向导电性,即外加正向电压时导通,外加反向电压时截止。
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第5题
若要使PMOS开启,则栅源之间加()电压,半导体表面能带(),反型后形成()沟道。
A、正,下弯,n型

B、负,上弯,n型

C、负,上弯,p型

D、负,下弯,p型

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第6题
以下关于MOSFET阈值电压的说法中,错误的是()。
A、半导体表面强反型时的栅极电压称为阈值电压

B、若金属相比半导体的功函数较小,二者功函数之差越大时,n沟增强型MOSFET的开启电压就越小

C、衬底掺杂浓度越高,沟道越容易进入强反型状态

D、氧化层厚度增加,阈值电压增加

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第7题
p型的MOS结构半导体表面处于反型区时,空间电荷是()的,为()。
A、正,电离施主杂质

B、正,电离施主杂质和空穴

C、负,电离受主杂质

D、负,电离受主杂质和电子

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第8题
PMOS半导体表面达到反型后,若源端电位高于漏端电位,则()在沟道中()进行输运。
A、空穴,由源端到漏端

B、空穴,由漏端到源端

C、电子,由源端到漏端

D、电子,由漏端到源端

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第9题
对于p型半导体形成的MOS电容结构,当金属端外加负电压时,表面能带向弯曲,表面为状态;对于n型半导体表面能带向弯曲,表面为状态()。
A、上,积累,下,耗尽或反型

B、上,耗尽或反型,上,积累

C、上,积累,上,耗尽或反型

D、下,积累,下,耗尽或反型

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第10题
发光二极管的核心部分是由 和 组成的晶片,在这两部分之间有一个过渡层,称为 。
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