题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。

A.形成晶核

B. 晶粒成长

C. 晶粒凝结

D. 缝道填补

E. 沉积膜成长

提问人：网友jacob_xxh 发布时间：2022-01-06

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第1题

薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。

A.形成晶核

B. 晶粒自旋

C. 晶粒凝结

D. 缝道填补

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第2题

蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大、最终形成连续薄膜三个阶段。（)

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第3题

电化学沉积法制备CIGS薄膜时，影响电沉积薄膜质量的主要因素包括（）。

A.电压

B.电解质浓度配比

C.溶液的pH值

D.沉积温度

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第4题

在非晶硅薄膜的PECVD方法中，等离子体到底发挥了哪些作用呢？以下叙述正确的是（）。

A.等离子体可以将反应物中的气体分子激活成活性离子，降低反应所需的温度。

B.等离子体可以加速反应物在基片表面的扩散作用或者表面迁移作用，从而使成膜速率得以提高。

C.等离子体对于基体表面及膜层表面具有溅射清洗作用，能够溅射掉那些结合不牢的粒子，从而增强了薄膜和基体之间的附着力。

D.反应物中的原子、分子、离子和电子之间相互碰撞和散射作用，有助于所沉积的薄膜厚度均匀。

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第5题

气相沉积过程包括哪几个环节（)。

A.气相物质的产生

B.气相物质的输运

C.气相物质在工件表面沉积形成固态薄膜

D.沉积材料蒸发

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第6题

晶体硅薄膜太阳能电池的未来发展主要包括两个方向：一是实现低成本Si衬底的商业化；二是发展高生产效率的沉积设备。

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第7题

有机半导体薄膜成膜技术包括（)。

A.真空热蒸发沉积

B.丝网印刷技术

C.旋转涂层法

D.有机气相沉积法

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第8题

阐述薄膜沉积中院子的运动状态及薄膜的生长过程

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第9题

PLD沉积合金薄膜时比蒸发的成分可控性要好。

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第10题

化学气相沉积中，提高气体流速，可加快薄膜的沉积速率。

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