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[主观题]

通过在光掩模的某些透明图形上增加或者减少一个透明的介质层,光波透过这个介质层之后产生180°的相位差,以此来提高光刻的分辨率的技术称为

提问人:网友ziyouying 发布时间:2022-01-06
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第1题
OSI七层模型中网络层的上一层是什么?()
A、传输层

B、会话层

C、数据链路层

D、应用层

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第2题
()只传输一个模式,多模光纤却传输成百上千个模式。
A.单模光纤

B.多模光线

C.渐变型光纤

D.玻璃光纤

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第3题
在OSI参考模型中,第N层和其上的N+1.层的关系是()。
A.N层为N+1.层提供服务

B.N+1.层将从N层的信息增加了一

C.N层利用N+1.层提供的服务

D.N层对N+1.层没有任何作用

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第4题
hadoop处在云计算三层模型中哪一层()
A.Paas

B.IasS

C.介于IaaS和PaaS之间

D.SaaS

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第5题
光刻时需要多片掩膜版,每一掩膜版的图形都需要进行
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第6题
简要叙述光刻工艺的流程及每一步的作用?
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第7题
根据溶解性的变化,光刻胶分为哪几类?他们的原理和特点是什么?
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第8题
刻蚀的工艺要求包括

A、分辨率高,图形保真度好

B、各向异性刻蚀

C、选择性好

D、刻蚀清洁

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第9题
刻蚀因子主要是判定刻蚀过程是各向同性或者各向异性。
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