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[单选题]

CMOS负载管为___,倒相管为___,两个管各自的______短接。()

A.PMOS,NMOS,衬底和源端

B.PMOS,NMOS,衬底和漏端

C.NMOS,PMOS,衬底和源端

D.NMOS,PMOS,衬底和漏端

提问人:网友susan_8821 发布时间:2022-01-07
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第1题
以下各项中不是CMOS倒相器的特点的是()。
A、无论导通态还是截止态,静态功耗都很小

B、两个管子的跨导均可以做得较大,使导通时等效电阻小

C、在导通和截止态转变过程中,瞬态电流会增大,一定会产生很大的总功耗

D、开关时间短,可以迅速完成状态转换

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第2题
电力系统中缺相运行是指()。

A. 三相短路

B. 二相断线并接地

C. 单相断线并接地

D. 单相断线但不接地

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第3题
患者,女,50岁,家庭主妇。二个月前逐渐出现右手臂部疼痛,扭毛巾和倒开水时疼痛症状加重。体查:颈部无异常,臂丛牵拉试验阴性,右手腕桡骨茎突处压痛明显如果采用封闭疗法,普鲁卡因的极量是多少()。

A. 200mg

B. 400mg

C. 600mg

D. 800mg

E. 1000mg

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第4题
n沟增强型MOSFET处于可调电阻区时,以下说法错误的是( )。

A、可调电阻区的电压范围为VDS<vgs-vth>

B、近漏处比近源处的沟道厚度要小

C、此时沟道区呈现电阻特性,电流IDS与VDS基本上是线性关系

D、VGS越大,沟道电阻越大

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第5题
MOS管处于线性工作区时,满足条件VDS___VGS-VTH,从源端到漏端沟道厚度越来越___。( )

A、>,大

B、>,小

C、<,大> D、<,小>

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第6题
以下关于MOSFET阈值电压的说法中,错误的是( )。

A、半导体表面强反型时的栅极电压称为阈值电压

B、若金属相比半导体的功函数较小,二者功函数之差越大时,n沟增强型MOSFET的开启电压就越小

C、衬底掺杂浓度越高,沟道越容易进入强反型状态

D、氧化层厚度增加,阈值电压增加

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第7题
MOS管工作在饱和区时,满足条件VDS___VGS-VTH,夹断区是___区。( )

A、>,耗尽

B、>,反型

C、<,耗尽> D、<,反型>

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第8题
n沟增强型MOS管的源端接地,工作在饱和工作区时,以下说法中错误的是( )。

A、此时满足条件VDS>VGS-VTH

B、沟道夹断点从源端向漏端移动

C、沟道夹断点电压为VGS-VTH

D、沟道夹断区为耗尽区

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第9题
以n沟增强型MOSFET为例,以下关于沟道长度调变效应的说法错误的是( )。

A、VDS增加,出现夹断点,沟道长度减小,导致漏-源饱和电流增加

B、MOS输出特性曲线饱和区段发生倾斜,输出阻抗降低

C、在n型沟道中运动的电子到达夹断处时,被耗尽区电场扫进漏区,增益变小

D、其工作机理类似于双极型晶体管的基区宽度调变效应

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第10题
如果MOS管进入饱和工作区后,继续增加VDS,则沟道夹断点向___移动,在___将出现耗尽区。( )

A、漏端,漏端

B、漏端,源端

C、源端,漏端

D、源端,源端

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