题目内容（请给出正确答案）

[多选题]

下列那些分布是有一族的：

A.正态分布

B.卡方分布

C.t分布

D.F分布

提问人：网友15***739 发布时间：2022-01-07

参考答案

查看官方参考答案

如搜索结果不匹配，请联系老师获取答案

网友答案

查看全部（）

· 有4位网友选择 A，占比20%
· 有3位网友选择 C，占比15%
· 有3位网友选择 D，占比15%
· 有2位网友选择 A，占比10%
· 有2位网友选择 B，占比10%
· 有2位网友选择 C，占比10%
· 有1位网友选择 B，占比5%
· 有1位网友选择 D，占比5%
· 有1位网友选择 AC，占比5%
· 有1位网友选择 ABCD，占比5%

ABCD

提交我的答案

登录提交答案，可赢取奖励机会。

您可能会需要：

重置密码查看订单联系客服

安装简答题APP，拍照搜题省时又省心！

更多“下列那些分布是有一族的：A.正态分布B.卡方分布C.t分布D…”相关的问题

第1题

正态分布的密度函数的特点是：关于μ对称，在μ处达到最大值，在正（负）无穷远处取值为0，在μ±σ处有拐点。它的形状是中间高两边低，图像是一条位于x 轴上方的钟形曲线。

点击查看答案

第2题

下列描述不属于正态分布特征的是（）。

A.左右对称

B.单峰分布

C.中间大两头小

D.概率处处相等

点击查看答案

第3题

适用于工期不对称分布的变量是()。

A. β分布

B. 正态分布

C. 经验分布

D. 三角形分布

点击查看答案

第4题

方差度量分散程度或者离中趋势。

点击查看答案

第5题

在半导体制造中，通常使用湿法刻蚀去除晶体背面的硅，蚀刻速率是该过程中需要重点关注的特征。为评估两种不同的蚀刻溶液，实验人员随机选择了8个晶片，将每个晶片分为两半，其中一半用溶液1蚀刻，另一半用溶液2蚀刻，且晶片在不同溶液之间的分配是随机的。下列是观察到的蚀刻速率（单位：密尔/分）。溶液1：9.9，9.4，10.0，10.3，10.6，10.3，9.3，9.8。溶液2：10.2，10.0，10.7，9.5，10.2，9.6，9.4，10.3。检验假设

，则当进行配对

检验时，检验统计量

等于

A、0.169

B、-0.169

C、0.178

D、-0.178

点击查看答案

第6题

样本均值是总体均值的无偏估计。

点击查看答案

第7题

为什么说区组适合作为减少噪声的设计方法？

点击查看答案

第8题

为什么说区组化并不总是最好的设计策略？

点击查看答案

第9题

在一个单因子实验中，因子A有4个水平，每个水平下重复次数分别为5,7,6,8。那么误差平方和的自由度是多少？

A、22

B、23

C、25

D、26

点击查看答案

第10题

对于泊松数据，常用的方差稳定变换方法是下列哪种？

A、倒数变换

B、平方根的倒数变换

C、对数变换

D、平方根变换

E、反正弦变换

点击查看答案

警告：系统检测到您的账号存在安全风险

为了保护您的账号安全，请在“简答题”公众号进行验证，点击“官网服务”-“账号验证”后输入验证码“”完成验证，验证成功后方可继续查看答案！

微信搜一搜

简答题

点击打开微信

警告：系统检测到您的账号存在安全风险

抱歉，您的账号因涉嫌违反简答题购买须知被冻结。您可在“简答题”微信公众号中的“官网服务”-“账号解封申请”申请解封，或联系客服。

微信搜一搜

简答题

点击打开微信