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常用的化学气相沉积有几种?简述其各自的优缺点。

提问人:网友wukoolala 发布时间:2022-01-07
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简述化学气相沉积法的优缺点以及影响参数。 简述BaTiO3PTC陶瓷的生产工艺。
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第4题
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第5题
化学气相沉积直接制备多晶硅薄膜的方法有()。

A.等离子增强化学气相沉积

B.热丝化学气相沉积制备多晶硅

C.低压化学气相沉积制备多晶硅

D.非晶硅晶化制备多晶硅薄膜

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第6题
非晶硅薄膜的化学气相沉积工艺中,下列沉积速率最快的是()

A.微波等离子体化学气相沉积

B.热丝化学气相沉积

C.光诱导化学气相沉积

D.直流等离子体化学气相沉积

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第7题
简述化学气相沉积CVD的原理和设备结构。

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第8题
目前常用刀具涂层方法有()。

A.化学气相沉积法

B. 物理气相沉积法

C. 盐浴浸镀法

D. 等离子喷涂

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第9题
气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积

气相沉积技术工艺方法有

A真空蒸镀

B溅射镀

C离子镀

D化学气相沉积

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第10题
以下属于多晶硅薄膜直接制备法的有()。

A.液相外延(LPE)法

B.化学气相沉积(CVD)法

C.等离子增强化学气相沉积(PECVD)法

D.低压化学气相沉积(LPCVD)

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