更多“因为抛光时未滴入适当的水,宝石与高速旋转的抛光盘之间摩擦产生…”相关的问题
第1题
电动磨光、抛光两用机适用于()受到限制操作不便的部位。
A. 平面位置
B. 空间位置
C. 工人作业
D. 其它机械
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第2题
化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。
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第3题
对硬质合金的抛光方法是()。
A. 磨削式抛光
B. 腐蚀性抛光
C. 电解式抛光
D. 化学抛光
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第4题
工件使用电化学抛光后除能得到光亮、平整的外观,还能形成一层完整的氧化膜,提高耐蚀性。
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第5题
以下不属于抛光机使用注意事项的是()
A、更换破损抛光布
B、横向平移试样抛光
C、不允许对试样过大加压
D、抛光过程中需要一直开启水流调节阀
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第7题
与化学抛光相比,电化学抛光的特点是()。
A、抛光后的工件表面更光亮
B、抛光溶液使用寿命更长
C、不产生N(黄烟)等有害气体
D、可以抛光形状更复杂的工件
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第8题
抛光操作时,抛光轮转速在左右,适用于抛光()。
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第10题
在抛光靠近卡环的部位时,要尽量使布轮旋转的方向与________一致,以防卡环被快速旋转的布轮挂住,使卡环变形,或将义齿甩出并折断。
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