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第1题
题3-2-8 以下不是集成电路制造工艺中离子注入用途的是 。
A、MOS器件源漏精确掺杂
B、形成浅结
C、调节MOS器件阈值电压
D、形成互连
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第2题
[图]A、-4B、4C、2D、-2...
A、-4
B、4
C、2
D、-2
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第3题
[图]A、π/2B、πC、2πD、4πE、0...
A、π/2
B、π
C、2π
D、4π
E、0
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第4题
[图]A、8B、10C、-8D、-10...
A、8
B、10
C、-8
D、-10
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第5题
[图]A、2B、1C、4D、0...
A、2
B、1
C、4
D、0
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第6题
[图]A、(0,0)是函数的极小值点B、(0,0)不是函数的极小值...
A、(0,0)是函数的极小值点
B、(0,0)不是函数的极小值点
C、(0,0)是函数的极大值点
D、(0,0)不是函数的极值点
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第7题
[图]A、-dyB、dxC、dx+dyD、dy...
A、-dy
B、dx
C、dx+dy
D、dy
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第8题
[图]A、{4,4,12}B、{2,4,4}C、{4,4,8}D、{2,2,4}...
A、{4,4,12}
B、{2,4,4}
C、{4,4,8}
D、{2,2,4}
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第9题
[图]A、 [图]B、 [图]C、2D、1...
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第10题
[图]A、极限不存在B、连续C、极限存在但不连续D、没有定义...
A、极限不存在
B、连续
C、极限存在但不连续
D、没有定义
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