题目内容
(请给出正确答案)
[主观题]
若在n型硅半导体中只含有一种V族杂质,其浓度为ND=1015cm-3。在40K的时候,测得载流子浓度为n=1012cm-3,估算这
若在n型硅半导体中只含有一种V族杂质,其浓度为ND=1015cm-3。在40K的时候,测得载流子浓度为n=1012cm-3,估算这个n型硅半导体的电离能Ed。
提问人:网友anonymity
发布时间:2022-01-06
若在n型硅半导体中只含有一种V族杂质,其浓度为ND=1015cm-3。在40K的时候,测得载流子浓度为n=1012cm-3,估算这个n型硅半导体的电离能Ed。
某n型半导体硅,其掺杂浓度ND=1015cm-3,少子寿命τp=5μs,若由于外界作用,使其少数载流子全部被清除(如反向偏压的pn结附近),试求此时电子—空穴的产生率是多大(设ni=1.5×1010cm-3)?
根据杂质电离能计算有效质量
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Cu2O材料的能隙与GaP或3C-SiC相当,为什么GAP或3C-SiC是半导体材料,而Cu2O就不是?
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