纳米光刻系统最重要的指标是（）。

简述纳米光刻技术的基本过程和原理，并分析提高传统光刻技术分辨率的主要途径。

A.两者都可用于制备纳米图形

B.纳米压印技术对操作环境的要求更高

C.纳米压印技术可以在圆柱形衬底上制备图形

D.纳米光刻版材料的选择性更广

E.纳米光刻工艺成本更低

F.有些纳米压印法可采用柔性材料来制备模板

调节系统最重要的品质指标是（）。

A.稳定性

B.准确性

C.快速性

D.可靠性。

A.制动距离

B. 制动轨迹

C. 制动时间

D. 制动力

A.静电纺丝

B.双光子聚合打印

C.数字投影微光刻3D打印

D.电喷印