更多“溅射产额与入射离子的参数如离子质量、速度、角度等有关,也与靶…”相关的问题
第1题
利用高能氩离子轰击靶材,靶材原子被撞击,脱离出来,在硅片表面形成薄膜的工艺过程是
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第2题
A、磁控溅射和射频溅射
B、电子束蒸发
C、电阻丝加热蒸发
D、ICP-CVD
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第3题
A、中子注量率
B、核反应截面
C、靶原子数目
D、靶子物的种类
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第4题
高速电子与阳极靶的()作用,产生靶材的标识X射线。
A. 自由电子
B. 核外壳层电子
C. 核外库仑场
D. 以上都不对
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第5题
对连续X射线的强度与靶材的原子序数关系的叙述正确的是()。
A. 强度与原子序数成正比
B. 强度与原子序数不成正比
C. 强度与原子序数成反比
D. 强度与原子序数的平方成正比
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第6题
下列对连续X射线的强度与靶材原子序数的关系的叙述正确的是()。
A. 强度与原子序数成正比
B. 强度与原子序数不成正比
C. 强度与原子序数成反比
D. 强度与原子序数的二次方成正比
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第7题
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,主要用于()等。
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第9题
下列叙述正确的是()
A. 连续X射线强度与靶物质的原子序数成反比
B. 连续X射线强度与管电流成反比
C. 连续X射线强度与管电压成反比
D. 连续X射线强度与高压波形无关
E. 以上都不对
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