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[主观题]

刻蚀要求均匀性好,保真度好,选择比高,清洁度高。

提问人:网友xy12323 发布时间:2022-01-07
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第1题

A、绿色环保

B、防火阻燃

C、透气性好

D、装饰美观

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第2题

A、抗爆性

B、蒸发性

C、氧化安定性

D、发火性

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第3题
真空吸盘要求工件表面( )、干燥清洁,同时气密性好。

A、粗糙

B、凸凹不平

C、平缓突起

D、平整光滑

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第4题

A. 蕴藏丰富

B. 分布广

C. 清洁无污染

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第5题
关于聚四氟乙烯垫片描述不正确的是:()。
A.由聚四氟乙烯包覆其它非金属材料而成的合成垫片,一方面具有聚四氟乙烯的化学抵抗性能,另一方面因为其核心材料而具有较好的抗拉性和回弹性

B.可用于腐蚀性介质或高清洁度要求的凸面法兰及平面管法兰,有良好的化学抵抗性能

C.温度范围可达‐200℃—250℃

D.不可用于腐蚀性介质或高清洁度要求的凸面法兰及平面管法兰

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第6题
含硅氧化物利用HF进行干法刻蚀时,若加入氧气,则会提高刻蚀速率和选择比。
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第7题
采用化学溶液进行湿法刻蚀时,必须注意产生的物质能够挥发或者溶解,不能出现沉淀物,否则会影响到刻蚀的进行。
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第8题
既有物理作用又有化学作用的干法刻蚀方法是
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第9题
刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
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第10题
SiO2的湿法刻蚀溶液中加入哪种物质,可以减缓刻蚀速率。
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