下列关于基本偏差的论述中正确的有______。
A.基本偏差数值大小取决于基本偏差代号
B.轴的基本偏差为下偏差
C.基本偏差的数值与公差等级无关
D.孔的基本偏差为上偏差
A.基本偏差数值大小取决于基本偏差代号
B.轴的基本偏差为下偏差
C.基本偏差的数值与公差等级无关
D.孔的基本偏差为上偏差
A.基本偏差数值大小取决于基本偏差代号
B.轴的基本偏差为下极限偏差
C.基本偏差的数值与公差等级无关
D.孔的基本偏差为上极限偏差
A.对于轴的基本偏差,从a~h为上偏差es,且为负值
B.对于轴,从j~z孔基本偏差均为下偏差,且为正值
C.基本偏差的数值与公差等级均无关
D.与基准轴配合的孔,A~H为间隙配合,P~ZC为过盈配合
A.对于轴的基本偏差,从a~h为上偏差es,且为负值或零
B.对于轴,从j~z孔基本偏差均为下偏差,且为正值
C.基本偏差的数值与公差等级均无关
D.与基准轴配合的孔,A~H为间隙配合,P~ZC为过盈配合
A.基准轴的基本偏差为上偏差,其值为零
B.基本偏差的数值与公差等级均无关
C.与基准轴配合的孔,A~H为间隙配合,J~ZC为过盈配合
D.对于轴的基本偏差,从a~h为上偏差es,且为负值或零
E.基准轴的基本偏差为下偏差,其值为零
下列关于反射的论述中错误的是()
A、完成反射所必需的结构基础是反射弧
B、反射是实现神经调节的基本方式
C、同一刺激所引起的反射效应应当完全相同
D、在反射进行过程中可以有体液因素参与
E、完成一个反射必须有中枢神经系统参与
A.集成方法中的基模型之间具有差异性
B.集成方法通常能获得比单个模型更好的预测性能
C.与单个模型相比,集成方法能够降低偏差
D.集成方法能够增强单个模型的表达能力
A.公差=最大极限尺寸—基本尺寸
B.公差=最小极限尺寸—基本尺寸
C.公差=最大极限尺寸—上偏差
D.公差=上偏差—上偏差
A.按偏差进行控制的系统必定是负反馈控制系统
B.各个环节输出量的变化不仅取决于输入量的变化,而且与环节特性有关
C.控制系统一般由控制对象、测量单元、调节单元、执行机构以及比较单元等组成
D.引起被控量变化的一切因素统称为扰动,包括基本扰动和外部扰动
为了保护您的账号安全,请在“简答题”公众号进行验证,点击“官网服务”-“账号验证”后输入验证码“”完成验证,验证成功后方可继续查看答案!