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刻蚀的工艺要求中最重要是刻蚀图形的保真度好,分辨率高。

提问人:网友mcldaybreak 发布时间:2022-01-07
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第1题
高质量图像扫描应遵循什么原则?
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第2题

A. 需要特殊的扫描条件

B. 用于获得较高的密度分辨率

C. 用于获得较高的空间分辨率

D. 应在常规CT扫描的基础上配合应用

E. 需要特殊的重建算法

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第3题
传感器对同一地点重复成像的时间间隔越短, 越高。

A、空间分辨率

B、辐射分辨率

C、光谱分辨率

D、时间分辨率

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第4题
利用物理或者化学方法将没有被光刻胶覆盖的下层材料去除的工艺是
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第5题
氮化硅湿法刻蚀常常采用的湿法腐蚀液为

A、HF

B、HNO3

C、H3PO4

D、H2SO4

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第6题
二氧化硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分主要包含

A、HF

B、NH4F

C、H202

D、H2O

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第7题
硅湿法刻蚀常采用的湿法腐蚀液成分包括

A、HF

B、H2O2

C、HNO3

D、H2O

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第8题
湿法刻蚀的选择性比较好,但是为各向异性刻蚀。
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第9题
湿法刻蚀的分辨率比干法刻蚀的分辨率高。
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第10题
反应离子刻蚀进行刻蚀过程中

A、既有物理作用,又有化学作用

B、物理作用

C、化学作用

D、既不是物理作用也不是化学作用

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