题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

以下不属于前烘的作用是（）

A.增强胶层与样品的粘附能力

B.在接触式曝光中可以提高胶层与掩膜板接触时的耐磨性能

C.将硅片上覆盖的光刻胶溶剂去除

D.可以提高光刻的分辨率

提问人：网友neptune0912 发布时间：2022-01-07

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ABCD

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