题目内容（请给出正确答案）

[单选题]

以下各种中，哪些不是软烘的作用

A.去除胶中的溶剂

B.增强光刻胶的粘附性

C.减少产生的应力

D.增强薄膜的抗腐蚀能力

提问人：网友anmshu 发布时间：2022-01-07

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ABCD

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第1题

利用一定的化学试剂将经过曝光后的可溶性的光刻胶溶解掉，从而在光刻胶上显示出掩膜版相对应的图形，该工序称为

A、涂胶

B、曝光

C、显影

D、刻蚀

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第2题

在曝光之前需要将掩膜版上的对准记号与硅片上的对准几号对准，该工序称为

A、对准

B、套刻

C、光刻

D、刻蚀

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第3题

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利用透镜将衍射的光聚焦，提高分辨率的方法为

A、利用透镜减少衍射技术

B、移相掩膜技术

C、离轴照明技术

D、浸润式光刻技术

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第4题

利用光学镜头和晶圆之间的介质，由水代替空气的光刻技术称为

A、离轴照明技术

B、移相掩膜技术

C、浸润式光刻技术

D、接触式光刻技术

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第5题

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通常，光刻的分辨率与波长之间的关系是

A、波长越短，分辨率越高

B、波长越短，分辨率越低

C、波长与分辨率关系不大

D、波长与分辨率之间的关系不确定

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第6题

以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是A、接触式B、接近...

以下几种光刻方法中，属于光学曝光的是

A、接触式

B、接近式

C、投影式

D、扫描式

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第7题

光刻胶，又称光致抗蚀剂，主要成分是A、感光剂（树脂）B、增...

光刻胶，又称光致抗蚀剂，主要成分是

A、感光剂（树脂）

B、增感剂

C、溶剂

D、其他添加剂，例如活性剂等。

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第8题

生产中中，产生紫外光的装置通常是A、高压汞灯B、准分子...

生产中中，产生紫外光的装置通常是

A、高压汞灯

B、准分子激光

C、钠灯

D、灯丝

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第9题

光刻的工艺要求是A、图形完整，尺寸准确B、套准对准，套准...

光刻的工艺要求是

A、图形完整，尺寸准确

B、套准对准，套准精度高

C、表面干净

D、具有一定的工艺宽容度

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第10题

光刻胶的主要性能指标包括A、抗蚀性B、灵敏度C、分辨率D、...

光刻胶的主要性能指标包括

A、抗蚀性

B、灵敏度

C、分辨率

D、粘附性

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