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[判断题]

芯片显微镜目检:华芯芯片P面朝下,JDSU的芯片N朝下()

提问人:网友154336271 发布时间:2022-10-13
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第1题
刺晶完成后,用显微镜观察,此时芯片的电极应()。

A.朝上

B.朝下

C.二者皆可

D.无特定要求

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第2题
以下说法正确的有()。

A.更换吸嘴后的首条产品,作业员送高倍检验员按照控制计划要求进行检验(一条产品的左中右区域各检3颗),确认合格后在《上芯高倍显微镜检验记录》上盖合格章

B.高倍检验时如发现吸嘴有破裂或沾污情况,应反馈工程人员

C.上芯过程中如修改设备顶针参数,不需确认芯片背面顶针痕迹

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第3题
上芯机生产的产品单个空洞面积()芯片面积为不良,合计空洞面积芯片面积为不良。

A.>3%

B.>5%

C.>3%

D.>10%

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第4题
上芯机生产的产品单个空洞面积()芯片面积为不良。合计空洞面积芯片面积为不良。

A.>3%

B.>5%

C.>10%

D.>15%

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第5题
墨点边缘不光滑的,芯片墨点淡的,REJ(目检)。()
墨点边缘不光滑的,芯片墨点淡的,REJ(目检)。()

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第6题
上芯机生产的产品单个空洞面积()芯片面积为不良;合计空洞面积()芯片面积为不良;
上芯机生产的产品单个空洞面积()芯片面积为不良;合计空洞面积()芯片面积为不良;

A、>3%>5%

B、>3%>10%

C、>5%>10%

D、>5%>15%

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第7题
关于上芯顶针痕迹监控项目,描述错误的有:()。

A.上芯顶针痕迹检查频次为1次/批

B.在100X显微镜下检查顶针痕迹时,如果顶针痕迹不清晰,未造成明显的不良,则判定为合格

C.MOSFET产品在100X显微镜下检查时,如有顶针印记,则判断为不良

D.在监控顶针痕迹时,必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控,不允许使用镊子从兰膜上直接夹取

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第8题
关于上芯顶针痕迹监控项目,描述正确的有()。

A.上芯顶针痕迹检查频次为1次

B.在监控顶针痕迹时,必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控,不允许使用镊子从兰膜上直接夹取

C.在100X显微镜下检查顶针痕迹时,如果顶针痕迹不清晰,未造成明显的不良,则判定为合格

D.MOSFET产品在100X显微镜下检查时,如有顶针印记,则判断为不良

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第9题
关于上芯顶针痕迹监控项目,描述正确的有()
关于上芯顶针痕迹监控项目,描述正确的有()

A、上芯顶针痕迹检查频次为1次/批

B、在100X显微镜下检查顶针痕迹时,如果顶针痕迹不清晰,未造成明显的不良,则判定为合格

C、MOSFET产品在100X显微镜下检查时,如有顶针印记,则判断为不良

D、在监控顶针痕迹时,必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控,不允许使用镊子从兰膜上直接夹取

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第10题
下列 关于电子控制点火系统故障诊断注意事项表述不对的是 ()

A.点火开关接通时,不可插拔集成电路芯片

B.故障检测时,应使用高阻抗的检测仪表

C.用搭铁试火或拆线试火的方法对电路进行检查

D.检测ECU或更换芯片时,操作人员应将身体接地

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第11题
晶圆传递时,晶圆()拿取晶圆,严禁手指触碰晶圆有芯片区域。

A.正面朝上

B.正面朝下

C.双手

D.单手

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