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[单选题]

光刻加工的工艺过程为：（)A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C

A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗

B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散

C.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

提问人：网友15***739 发布时间：2022-01-06

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光刻加工的主要过程有涂胶、曝光、显影与烘片、刻蚀、剥膜。（)

光刻加工的主要过程有涂胶、曝光、显影与烘片、刻蚀、剥膜。()

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D.清洗，紫外灯下观察

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第7题

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第8题

光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？

A.打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶

B.打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶

C.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶

D.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀

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第9题

高炉炼铁是一个（)气氛的过程。

A.氧化

B.还原

C.先还原再氧化

D.先氧化再还原

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第10题

生铁冶炼过程是一个()过程。

A.氧化

B.还原

C.先氧化后还原

D.先还原后氧化

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