题目内容
（请给出正确答案）
[单选题]
光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？
A.打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
B.打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
C.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
D.打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
提问人：网友hhhh7118
发布时间：2022-01-06
如搜索结果不匹配，请 
A. 现场的实际尺寸
B. 工艺走向及相对位置
C. 实际高低位置及尺寸
D. 实际高低位置
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第6题
下列有关曝光的描述正确的是：
A、确定图案的精确形状和尺寸；
B、步进曝光机一次就可以完成曝光；
C、使受光照射区域的光刻胶膜发生化学反应形成潜影；
D、需要进行准确对版后再曝光，才能保证各次光刻的套准精度。
