更多“早期IBM公司用的化学放大光刻胶(APEX胶)是一种聚合物,…”相关的问题
第1题
根据溶解性的变化,光刻胶分为哪几类?他们的原理和特点是什么?
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第2题
乳液聚合丁苯橡胶有冷(胶)热(胶)之分。试分别列举一种引发剂体系和聚合条件。单体转化率为什么通常控制在60%左右?聚合时如何调节聚合物颗粒的大小?
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第3题
乳胶漆是合成乳胶成膜的涂料,它具有()的特点。
A. 透气性
B. 耐水性
C. 耐碱性
D. 附着力强
E. 耐酸性
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第4题
(题干)明胶与银离子相互作用,生成一种不稳定的银胶络合物。明胶加热时该络合物分解,生成了银及硫化银,它们聚集在溴化银晶体的缺陷和位错的部位上,构成了感光中心。明胶能吸收卤化银在感光时产生的卤原子,以防止卤原子与银原子的重新化合,因而相对地提高了感光度。明胶可以包围卤化银晶体,使它们彼此不直接接触,并能均勾涂布在片基上,不沉淀、不结块,保护了未感光面化银晶体不被显影。明肢膨胀后具有多孔性,可使较小分子通过。明胶具有热熔冷凝的特性。明胶黏性很强,使乳剂牢固地黏着在片基上。明胶参与坚膜作用。 下列叙述中错误的是A.明胶能提高感光度
B.明胶是吸卤剂
C.明胶不参与坚膜作用
D.明胶热熔冷凝
E.明胶可保护未感光卤化银
下列叙述中正确的是A.明胶黏性低
B.明胶参与感光化学反应
C.明胶使a化银处于沉淀状态
D.明胶没有保护作用
E.明胶提高胶片感光度
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第5题
NA为1.36时,使用浸没式光刻机能得到光刻线宽为( )图案。
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第6题
原子层淀积(ALD)是利用反应气体与基板之间的气-固反应来完成薄膜淀积或外延生长的技术。
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第7题
光刻系统中,能影响其分辨率的因素有( )。
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第9题
光刻工艺中,常用的涂底胶的方法有( )。
A、蒸汽式涂底胶方法
B、常压式涂底胶
C、旋转喷涂底胶法
D、静态旋转涂胶
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第10题
纳米光刻技术中分辨率越高,光刻图形能分辨的线宽越大。
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