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[单选题]

早期IBM公司用的化学放大光刻胶(APEX胶)是一种聚合物,主要包括聚合物主干、刻蚀阻挡基团、()基团和()。

A.刻蚀 酸根

B.保护 酸根

C.保护 酯基

D.刻蚀 酯基

提问人:网友xiaoroad 发布时间:2022-01-07
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第1题
根据溶解性的变化,光刻胶分为哪几类?他们的原理和特点是什么?
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第2题
乳液聚合丁苯橡胶有冷(胶)热(胶)之分。试分别列举一种引发剂体系和聚合条件。单体转化率为什么通常控制在60%左右?聚合时如何调节聚合物颗粒的大小?
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第3题
乳胶漆是合成乳胶成膜的涂料,它具有()的特点。

A. 透气性

B. 耐水性

C. 耐碱性

D. 附着力强

E. 耐酸性

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第4题
(题干)明胶与银离子相互作用,生成一种不稳定的银胶络合物。明胶加热时该络合物分解,生成了银及硫化银,它们聚集在溴化银晶体的缺陷和位错的部位上,构成了感光中心。明胶能吸收卤化银在感光时产生的卤原子,以防止卤原子与银原子的重新化合,因而相对地提高了感光度。明胶可以包围卤化银晶体,使它们彼此不直接接触,并能均勾涂布在片基上,不沉淀、不结块,保护了未感光面化银晶体不被显影。明肢膨胀后具有多孔性,可使较小分子通过。明胶具有热熔冷凝的特性。明胶黏性很强,使乳剂牢固地黏着在片基上。明胶参与坚膜作用。 下列叙述中错误的是A.明胶能提高感光度

B.明胶是吸卤剂

C.明胶不参与坚膜作用

D.明胶热熔冷凝

E.明胶可保护未感光卤化银

下列叙述中正确的是A.明胶黏性低

B.明胶参与感光化学反应

C.明胶使a化银处于沉淀状态

D.明胶没有保护作用

E.明胶提高胶片感光度

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第5题
NA为1.36时,使用浸没式光刻机能得到光刻线宽为( )图案。

A、55nm

B、35nm

C、32nm

D、60nm

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第6题
原子层淀积(ALD)是利用反应气体与基板之间的气-固反应来完成薄膜淀积或外延生长的技术。
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第7题
光刻系统中,能影响其分辨率的因素有( )。

A、光强

B、光波长

C、瑞利系数

D、NA

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第8题
系统分辨率是特征线宽的极限。
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第9题
光刻工艺中,常用的涂底胶的方法有( )。

A、蒸汽式涂底胶方法

B、常压式涂底胶

C、旋转喷涂底胶法

D、静态旋转涂胶

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第10题
纳米光刻技术中分辨率越高,光刻图形能分辨的线宽越大。
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