题目内容
(请给出正确答案)
[判断题]
离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。()
提问人:网友文旻昊
发布时间:2022-01-07
A.离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。
B.横向扩散现象很小
C.很好的杂质均匀性
D.注入杂质的纯度高,属于低温工艺
A.离子注入对半导体晶格没有损伤
B.离子注入利用电场来控制离子的注入深度
C.离子注入利用磁场来筛选注入的离子
D.将半导体晶片偏转一定的角度可以避免离子注入遇到的沟道效应
(1)需称取上述试样多少克?
(2)以浓度为0.0100mol·L-1的碱溶液代替1.000mol·L-1的碱溶液滴定,重复上述计算.
(3)通过上述(1)(2)计算结果,说明为什么在滴定分析中常采用的滴定剂浓度为0.1-0.2mol·L-1.
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