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[主观题]

溅射是用离子轰击靶材，将靶材原子打出来，再沉积到基片上成膜的镀膜技术。

提问人：网友hunan1010 发布时间：2022-01-07

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第1题

利用高能氩离子轰击靶材，靶材原子被撞击，脱离出来，在硅片表面形成薄膜的工艺过程是

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第2题

下列可用于绝缘靶材镀膜的PVD技术是

A.直流溅射

B.射频溅射

C.三极溅射

D.低温磁控溅射

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第3题

溅射率也称溅射产额，表示正离子轰击作为阴极材料的靶材时，平均每个正离子能从靶材上打出的原子数目。

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第4题

溅射产额与入射离子的参数如离子质量、速度、角度等有关，也与靶材参数如靶材原子质量、结合能等有关，另外温度越高，原子震动越快，原子更容易被溅射出去，因此溅射产额一般和温度正相关。（)

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第5题

溅射沉积时，离子只能远离衬底而轰击阴极靶材。

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第6题

一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

A.产生一个离子并导向靶

B. 被轰击的原子向硅晶片运动

C. 离子把靶上的原子轰出来

D. 经过加速电场加速

E. 原子在硅晶片表面凝结

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第7题

溅射法是由（)轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。A.电子B.中性粒子C

溅射法是由()轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。

A.电子

B.中性粒子

C.带能离子

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第8题

离子镀技术结合了蒸镀和溅射镀膜两种技术的优点，具有沉积速度快和膜层结合力高的特点，还具有绕射性好、离子轰击清洗作用，可镀材料广泛的优点。（)

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第9题

用高能电子束轰击金属“靶”材产生X射线，它具有与靶中元素相对应的特定波长，称为。

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第10题

在采用多元氧化物靶材制备薄膜时，为了保证薄膜与靶材的成分一致，可以选择脉冲激光沉积方法。

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