题目内容 （请给出正确答案）
[单选题]

下列可用于绝缘靶材镀膜的PVD技术是

A.直流溅射

B.射频溅射

C.三极溅射

D.低温磁控溅射

提问人：网友liugao 发布时间：2022-01-07
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更多“下列可用于绝缘靶材镀膜的PVD技术是”相关的问题
第1题
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A.磁控溅射

B.直流溅射

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第2题
磁控溅射可以是直流溅射，也可以是射频溅射。
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第3题
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第4题
以下方法中，哪种可用于绝缘介质的淀积

A.电阻丝加热蒸发

B.电子束蒸发

C.直流溅射

D.射频溅射

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第5题
不属于PVD技术的是

A.金属有机化合物化学气相沉积

B.溅射镀膜

C.离子镀

D.真空蒸镀

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第6题
TFT-LCD制备工艺中使用的PVD工艺是（）？

A.真空蒸发镀膜

B.溅射镀膜

C.离子镀膜

D.化学气相沉积镀膜

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第7题
直流溅射和射频溅射都可以用来制备金属薄膜。
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第8题
CrN镀层硬度高、摩擦系数小，可代替电镀铬，该镀层常用下列哪种方法制备

A.真空镀膜

B.直流溅射镀膜

C.反应溅射镀膜

D.电刷镀

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第9题
下列（)不属于物理气相淀积。

A.磁控溅射和射频溅射

B.电子束蒸发

C.电阻丝加热蒸发

D.ICP-CVD

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第10题
磁控溅射可以提高氩气的离化率，并将二次电子束缚在靶周围的区域，提高溅射的效率。
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