题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
下列不属于提高MOS管特征频率方法的是()。
A.采用应力工程,提高载流子迁移率
B.提高跨导
C.增加沟道长度
D.减小栅围寄生电容
提问人:网友曾深鑫
发布时间:2022-01-07
A.采用应力工程,提高载流子迁移率
B.提高跨导
C.增加沟道长度
D.减小栅围寄生电容
A.小尺寸器件沟道长度采用栅极长度计算
B.晶格散射导致的载流子迁移率退化
C.小尺寸器件中的纵向电场
D.栅漏电容的米勒效应
A.小尺寸器件沟道长度与栅极长度并不完全相等
B.晶格散射导致的载流子迁移率退化
C.小尺寸器件中的纵向电场
D.栅漏电容的米勒效应
A.小尺寸器件沟道长度与栅极长度并不完全相等
B.晶格散射导致的载流子迁移率退化
C.小尺寸器件中的纵向电场
D.栅漏电容的米勒效应
A.MOS晶体管的电学本质:电流控制电压源
B.MOS器件的最高工作频率与其沟道长度的平方成正比,增大沟道长度L可有效地提高工作频率
C.MOS管本征寄生电容有三个来源,分别是:栅至沟道的电容,基本MOS结构电容(覆盖电容),结电容
D.NMOS传输门传输低电平有阈值损失,PMOS传输门传输高电平有阈值损失
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