题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

下列不会加重漏致势垒降低效应的是()

A.减小沟道长度

B.增大衬底掺杂浓度

C.增大衬底偏压

D.增大栅氧化层电容

提问人:网友曾深鑫 发布时间:2022-01-07
参考答案
查看官方参考答案
如搜索结果不匹配,请 联系老师 获取答案
网友答案
查看全部
  • · 有4位网友选择 C,占比40%
  • · 有3位网友选择 D,占比30%
  • · 有2位网友选择 B,占比20%
  • · 有1位网友选择 A,占比10%
匿名网友 选择了D
[151.***.***.77] 1天前
匿名网友 选择了B
[4.***.***.3] 1天前
匿名网友 选择了C
[67.***.***.248] 1天前
匿名网友 选择了C
[128.***.***.163] 1天前
匿名网友 选择了B
[44.***.***.111] 1天前
匿名网友 选择了C
[109.***.***.44] 1天前
匿名网友 选择了D
[127.***.***.173] 1天前
匿名网友 选择了A
[186.***.***.217] 1天前
匿名网友 选择了C
[69.***.***.100] 1天前
匿名网友 选择了D
[137.***.***.19] 1天前
加载更多
提交我的答案
登录提交答案,可赢取奖励机会。
更多“下列不会加重漏致势垒降低效应的是()”相关的问题
第1题
下列不会加重漏致势垒降低效应的是()

A.减小沟道长度

B.增大衬底掺杂浓度

C.增大衬底偏压

D.增大栅氧化层电容

点击查看答案
第2题
以下哪些措施可以降低MOSFET的亚阈区摆幅:()。

A.减小沟道长度

B.增加栅氧化层厚度

C.增加沟道宽度

D.降低衬底掺杂浓度

点击查看答案
第3题
以下哪些措施可以防止MOSFET的沟道穿通:()。

A.减小沟道长度

B.增加衬底掺杂浓度

C.增加栅氧化层厚度

D.增加沟道宽度

点击查看答案
第4题
某铝栅p沟道mosfet的衬底和源极短接,其参数如下:tox=10nm,衬底掺杂浓度为

某铝栅P沟道MOSFET的衬底和源极短接,其参数如下:Tox=10nm,衬底掺杂浓度为,氧化层电荷面密度为,金属栅和衬底的功函数差为-0.3V,空穴迁移率为,电子迁移率为(1)该MOSFET的衬底费米势为多少? (2)该MOSFET的单位面积氧化层电容是多少? (3)写出该MOSFET的阈值电压公式,并计算阈值电压?

点击查看答案
第5题
以下关于PN结电容说法正确的是

A.正向偏压增大时,势垒电容减小;

B.正向偏压增大时,扩散电容减小;

C.反向偏压增大时,势垒电容减小;

D.势垒电容是一种固定电容。

点击查看答案
第6题
以下会使DIBL效应最明显的条件是()。

A.沟道长度越长,衬底掺杂浓度越大

B.沟道长度越长,衬底掺杂浓度越小

C.沟道长度越短,衬底掺杂浓度越大

D.沟道长度越短,衬底掺杂浓度越小

点击查看答案
第7题
()会使亚阈值摆幅变小

A.缩短沟道长度

B.减小沟道宽度

C.减小氧化层厚度

D.提高衬底掺杂浓度

点击查看答案
第8题
影响MOSFET阈值电压的因素有()。

A.栅氧化层厚度

B.沟道宽度

C.衬底掺杂浓度

D.氧化层固定电荷

点击查看答案
第9题
热载流子效应引起的影响不包括()。

A.碰撞电离产生衬底电流而使衬底电势起伏

B.热电子跨越Si-SiO2势垒,被注入栅介质

C.漏极电流增大而形成雪崩击穿

D.发射出光子,形成光发射电流

点击查看答案
账号:
你好,尊敬的用户
复制账号
发送账号至手机
获取验证码
发送
温馨提示
该问题答案仅针对搜题卡用户开放,请点击购买搜题卡。
马上购买搜题卡
我已购买搜题卡, 登录账号 继续查看答案
重置密码
确认修改
欢迎分享答案

为鼓励登录用户提交答案,简答题每个月将会抽取一批参与作答的用户给予奖励,具体奖励活动请关注官方微信公众号:简答题

简答题官方微信公众号

警告:系统检测到您的账号存在安全风险

为了保护您的账号安全,请在“简答题”公众号进行验证,点击“官网服务”-“账号验证”后输入验证码“”完成验证,验证成功后方可继续查看答案!

微信搜一搜
简答题
点击打开微信
警告:系统检测到您的账号存在安全风险
抱歉,您的账号因涉嫌违反简答题购买须知被冻结。您可在“简答题”微信公众号中的“官网服务”-“账号解封申请”申请解封,或联系客服
微信搜一搜
简答题
点击打开微信