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[单选题]

减小NMOSFET晶体管的亚阈摆幅措施为()。

A.增加氧化层厚度

B.提高沟道区掺杂浓度

C.降低沟道长度

D.增加衬-源反偏电压

提问人:网友陈银桑 发布时间:2022-01-07
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[202.***.***.134] 1天前
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[103.***.***.250] 1天前
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[235.***.***.173] 1天前
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[89.***.***.49] 1天前
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更多“减小NMOSFET晶体管的亚阈摆幅措施为()。”相关的问题
第1题
以下哪些措施可以降低MOSFET的亚阈区摆幅:()。

A.减小沟道长度

B.增加栅氧化层厚度

C.增加沟道宽度

D.降低衬底掺杂浓度

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第2题
()会使亚阈值摆幅变小

A.缩短沟道长度

B.减小沟道宽度

C.减小氧化层厚度

D.提高衬底掺杂浓度

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第3题
以下哪些措施可以防止MOSFET的沟道穿通:()。

A.减小沟道长度

B.增加衬底掺杂浓度

C.增加栅氧化层厚度

D.增加沟道宽度

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第4题
________不利于增加增强型NMOSFET的阈值电压

A.增加SiO2层的厚度

B.Wm <ws>

C.向沟道区掺入B

D.衬源间施加负偏压

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第5题
以下哪些措施可以增大MOSFET的饱和区漏极电流:()。

A.增加沟道长度

B.减小栅氧化层厚度

C.减小沟道宽度

D.提高阈值电压

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第6题
下列不会加重漏致势垒降低效应的是()

A.减小沟道长度

B.增大衬底掺杂浓度

C.增大衬底偏压

D.增大栅氧化层电容

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第7题
下列不会加重漏致势垒降低效应的是()

A.减小沟道长度

B.增大衬底掺杂浓度

C.增大衬底偏压

D.增大栅氧化层电容

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第8题
()不能提高MOSFET频率特性

A.缩短沟道长度

B.减小氧化层厚度

C.使用高迁移率沟道材料

D.采用自对准多晶硅栅

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第9题
衬源短接的增强型NMOSFET,VDS>0正常开启时,衬底表面电势最低点出现在?()

A.源区

B.沟道区靠近源区一侧

C.沟道区靠近漏区一侧

D.漏区

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