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第1题
以下哪些措施可以降低MOSFET的亚阈区摆幅:()。
A.减小沟道长度
B.增加栅氧化层厚度
C.增加沟道宽度
D.降低衬底掺杂浓度
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第2题
()会使亚阈值摆幅变小
A.缩短沟道长度
B.减小沟道宽度
C.减小氧化层厚度
D.提高衬底掺杂浓度
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第3题
以下哪些措施可以防止MOSFET的沟道穿通:()。
A.减小沟道长度
B.增加衬底掺杂浓度
C.增加栅氧化层厚度
D.增加沟道宽度
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第4题
________不利于增加增强型NMOSFET的阈值电压
A.增加SiO2层的厚度
B.Wm <ws>
C.向沟道区掺入B
D.衬源间施加负偏压
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第5题
以下哪些措施可以增大MOSFET的饱和区漏极电流:()。
A.增加沟道长度
B.减小栅氧化层厚度
C.减小沟道宽度
D.提高阈值电压
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第6题
下列不会加重漏致势垒降低效应的是()
A.减小沟道长度
B.增大衬底掺杂浓度
C.增大衬底偏压
D.增大栅氧化层电容
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第7题
下列不会加重漏致势垒降低效应的是()
A.减小沟道长度
B.增大衬底掺杂浓度
C.增大衬底偏压
D.增大栅氧化层电容
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第8题
()不能提高MOSFET频率特性
A.缩短沟道长度
B.减小氧化层厚度
C.使用高迁移率沟道材料
D.采用自对准多晶硅栅
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第9题
衬源短接的增强型NMOSFET,VDS>0正常开启时,衬底表面电势最低点出现在?()
A.源区
B.沟道区靠近源区一侧
C.沟道区靠近漏区一侧
D.漏区
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